[发明专利]具有分层柱的半导体装置及其制造方法在审
申请号: | 201810244200.X | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN108630598A | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 罗纳·派翠克·休莫勒;麦克·G·凯利;可陆提斯·史温格 | 申请(专利权)人: | 艾马克科技公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/48;H01L23/538 |
代理公司: | 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 | 代理人: | 林柳岑;贺亮 |
地址: | 美国亚利桑那州85*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 具有分层柱的半导体装置及其制造方法。本文揭示一种具有一个或多个分层柱的半导体装置及制造这种半导体装置的方法。所述半导体装置可包括重新分布层、半导体晶粒以及操作性地耦接所述半导体晶粒的底表面到所述重新分布层的多个互连结构。所述半导体装置可进一步包括在所述半导体晶粒的周围附近的一个或多个传导柱。所述一个或多个传导柱可被电性连接到所述重新分布层并且每个传导柱可包括多个堆叠的分层。 | ||
搜索关键词: | 半导体装置 半导体晶粒 重新分布层 传导柱 分层柱 制造 电性连接 互连结构 堆叠 分层 耦接 | ||
【主权项】:
1.一种制造半导体装置的方法,其特征在于,所述方法包括:将半导体晶粒电性连接到插入物,所述半导体晶粒具有顶表面、底表面及将所述顶表面邻接到所述底表面的一个或多个侧表面;形成传导柱的第一分层,使得所述第一分层是在所述半导体晶粒的所述一个或多个侧表面的远处外围地设置并且所述第一分层被电性连接到所述插入物;以及形成所述传导柱的第二分层,使得所述第二分层是在所述传导柱的所述第一分层上并且电性连接到所述传导柱的所述第一分层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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