[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810258985.6 申请日: 2018-03-27
公开(公告)号: CN108511394B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 张正东;苏磊;杨小飞;郭明周;刘旭 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L27/12;G02F1/1362
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。方法包括:提供一衬底基板;在衬底基板上依次形成栅极金属图案、栅绝缘层和有源层,栅极金属图案包括信号线和栅极,信号线位于周边区域;通过构图工艺形成贯穿有源层和栅绝缘层的第一过孔,并通过构图工艺形成有源层图案,第一过孔在衬底基板上的正投影与信号线在衬底基板上的正投影存在重叠区域;在形成有有源层图案的衬底基板上形成源漏极金属图案,源漏极金属图案包括源漏极走线,源漏极走线通过第一过孔与信号线电连接;在形成有源漏极金属图案的衬底基板上形成钝化层。本发明解决了相关技术中阵列基板的可靠性较低的问题。本发明用于阵列基板的制造。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述阵列基板包括显示区域和位于所述显示区域周围的周边区域,所述方法包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上依次形成栅极金属图案、栅绝缘层和有源层,所述栅极金属图案包括信号线和栅极,所述信号线位于所述周边区域;通过构图工艺形成贯穿所述有源层和所述栅绝缘层的第一过孔,并通过所述构图工艺形成有源层图案,所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影与所述信号线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域;在形成有所述有源层图案的衬底基板上形成源漏极金属图案,所述源漏极金属图案包括源漏极走线,所述源漏极走线通过所述第一过孔与所述信号线电连接;在形成有所述源漏极金属图案的衬底基板上形成钝化层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810258985.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top