[发明专利]一种制备氮化铝单晶的方法在审

专利信息
申请号: 201810269475.9 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN108624957A 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 吴亮;贺广东;王智昊;王琦琨;龚加玮;雷丹;黄嘉丽;黄毅 申请(专利权)人: 苏州奥趋光电技术有限公司
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B23/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙仿卫;刘鑫
地址: 215699 江苏省苏州市张家港市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种制备氮化铝单晶的方法,在氮化铝烧结体表面长晶来制备籽晶,保持T2>T1,使生长速率较快,得到的籽晶晶粒尺寸更大;将杂质沉积到沉积区,使杂质含量较少;通过对晶粒的选取,使晶向可控,能够选出特定晶向的晶粒;倒置并固定氮化铝烧结体,保留晶粒进行同质续长,免除了常规物理气相传输法中籽晶粘接这一困难工序;通过在升温阶段控制长晶区温度大于原料区温度,并短时保温,进一步清除掉籽晶表面污染及损伤层;在晶体生长阶段保持低压及特定温差,保证了较大传质速率及晶体生长速率;在降温阶段再次控制长晶区温度大于原料区温度,有效的抑制了后期的二次形核,提高了晶体质量,能够有效的制备出大尺寸、高质量的氮化铝单晶。
搜索关键词: 氮化铝单晶 晶粒 制备 氮化铝烧结体 原料区 晶向 晶体生长阶段 常规物理 降温阶段 晶体生长 气相传输 升温阶段 杂质沉积 制备籽晶 籽晶表面 倒置 沉积区 损伤层 传质 次形 可控 同质 粘接 籽晶 温差 保温 生长 保留 污染 保证
【主权项】:
1.一种制备氮化铝单晶的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将氮化铝原料放入第一坩埚的底部,所述第一坩埚的下部为生长区,所述第一坩埚的上部为沉积区,将所述第一坩埚放入炉体中,对所述炉体抽真空,接着向所述炉体中通入高纯氮气,保持所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa,沉积区的温度为T1,生长区的温度为T2,加热所述第一坩埚,同时对沉积区和生长区进行升温,使T2升至2000‑2300℃,在此过程中保持T2>T1,控制两者之间的温差为50‑200℃;(2)抽取所述炉体中的高纯氮气,使所述炉体中的氮气气压为10‑50Kpa并保压,继续对所述第一坩埚进行加热, 使T2升至2100‑2400℃,在此过程中保持T2>T1,控制两者之间的温差为10‑150℃,并保温一段时间;(3)向所述炉体中通入高纯氮气,使所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa并保压,对所述第一坩埚进行降温,在此过程中保持T2>T1,在T2下降至1000℃之前,控制两者之间的温差为50‑200℃;(4)降温结束后,取出所述第一坩埚底部的的氮化铝烧结体,在纯净气氛下,选取所述氮化铝烧结体表面合适的晶粒进行保留,将其余晶粒剔除;(5)将氮化铝原料放入第二坩埚的底部,并将所述氮化铝烧结体固定在所述第二坩埚的中上部,使保留的所述晶粒朝下,所述氮化铝烧结体所在的区域为长晶区,所述氮化铝原料所在的区域为原料区,将所述第二坩埚放入所述炉体中,对所述炉体抽真空,接着向所述炉体中通入高纯氮气,保持所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa,长晶区的温度为T3,原料区的温度为T4,加热所述第二坩埚,同时对长晶区和原料区进行升温,在此过程中保持T3>T4,控制两者之间的温差为10‑150℃;(6)保持所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa,继续加热所述第二坩埚,使T3升至2000‑2300℃,在此过程中保持T3>T4,控制两者之间的温差为50‑200℃,并保温一段时间;(7)保持所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa,继续加热所述第二坩埚,使T3升至2100‑2400℃,使T3<T4,控制两者之间的温差为10‑150℃;(8)抽取所述炉体中的高纯氮气,使所述炉体中的氮气气压为10‑50Kpa并保压,保持T3为2100‑2400℃,T3<T4,两者之间的温差为10‑150℃,并保温一段时间;(9)向所述炉体中充入高纯氮气,使所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa并保压,降低原料区的温度,保持T3为2100‑2400℃,使T3>T4,控制两者之间的温差为50‑200℃;(10)保持所述炉体中的氮气气压为50‑150Kpa,对所述第二坩埚进行降温,在此过程中保持T3>T4,在T3下降至1000℃之前,控制两者之间的温差为50‑200℃。
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