[发明专利]蚀刻液组合物及蚀刻方法有效
| 申请号： | 201810273822.5 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108690984B | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 清水寿和;大和田拓央 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 陆凤;徐迅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供能够在对Qz基板不造成破坏的情况下对MoSi膜进行选择性的蚀刻的蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法。一种用于对MoSi膜进行蚀刻处理的蚀刻液组合物，其中，包含少于3.5重量％的氟化合物、水和含碘氧化剂。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于对MoSi膜进行蚀刻处理的蚀刻液组合物，其中，包含少于3.5重量％的氟化合物、水和含碘氧化剂。
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