[发明专利]反应腔室内的工艺套件及反应腔室有效
| 申请号： | 201810282874.9 | 申请日： | 2018-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110344006B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 邓玉春;张超;耿波 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/46;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种反应腔室的工艺套件，包括：绝缘环，耦接到所述基座并环绕所述基座的外周壁；第一屏蔽环，耦接到所述绝缘环并环绕所述绝缘环的外周壁，且接地；溅射环，承载于所述基座和所述绝缘环的上表面上；遮蔽环，在被所述第一屏蔽环支撑时，其内环区域置于所述第一屏蔽环上且与所述溅射环间设有预设间隙，所述预设间隙用于防止甚高频信号自所述预设间隙泄露。本发明还提供一种反应腔室，在一定程度上避免该空间出现腔室亮点的问题、造成甚高频功率的浪费且影响工艺质量。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 室内 工艺 套件 | ||
【主权项】：
1.一种反应腔室的工艺套件，其特征在于，包括：绝缘环，耦接到所述基座并环绕所述基座的外周壁；第一屏蔽环，耦接到所述绝缘环并环绕所述绝缘环的外周壁，且接地；溅射环，承载于所述基座和所述绝缘环的上表面上；遮蔽环，在被所述第一屏蔽环支撑时，其内环区域置于所述第一屏蔽环上且与所述溅射环间设有预设间隙，所述预设间隙用于防止甚高频信号自所述预设间隙泄露。
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