[发明专利]显影方法、显影装置和存储介质

摘要

本发明提供一种对显影的显影方法、显影装置和存储介质，其进行以下步骤：在停止从在显影液喷嘴(31)的相对面(32)向下方开口的排出口(33)排出显影液的状态下，使显影液喷嘴(31)相对于基片(W)的表面上升，利用该显影液的表面张力，将排出口(33)下方的一部分积液提起的步骤；使显影液喷嘴(31)的上升停止，由提起了的该一部分积液形成上端与相对面接触(32)并且随着向该上端去逐渐变细的显影液柱的步骤；和对显影液柱施加剪切力来将该显影液柱的上端剪断，使显影液柱从相对面(32)分离的分离步骤。由此，能够防止显影液从与形成于该基片的显影液的积液接触的显影液喷嘴落下到基片上而发生异常。

主权项

1.一种显影方法，其特征在于，包括：水平地保持用于制造半导体器件的基片的步骤，所述基片在表面形成有抗蚀剂膜且已被曝光；在所述基片的表面的中心部和周缘部中的一者的上方，配置构成显影液喷嘴的与所述基片的表面的一部分相对的相对面的步骤；从在所述相对面向下方开口的排出口排出显影液，形成与该相对面接触的显影液的积液的步骤；以所述相对面与所述积液接触的状态，使所述显影液喷嘴沿旋转的所述基片的表面移动到该基片的中心部和周缘部中的另一者，使该积液扩展的步骤；在停止从所述排出口排出显影液的状态下，使所述显影液喷嘴相对于所述基片的表面相对地上升，利用所述显影液的表面张力，将所述排出口的下方的所述积液的一部分提起的步骤；使所述显影液喷嘴的上升停止，由提起了的所述积液的一部分形成上端与所述相对面接触并且随着向该上端去逐渐变细的显影液柱的步骤；和对所述显影液柱施加剪切力来将该显影液柱的上端剪断，使所述显影液柱从所述相对面分离的分离步骤。