[发明专利]一种用于高分子薄膜的高压电极化系统有效

专利信息
申请号: 201810327626.1 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN108470823B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 孙权;张旭;覃双;崔洪亮;刘兴宇;徐兴烨;邵志强;张鹏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十九研究所
主分类号: H01L41/047 分类号: H01L41/047;H01L41/29
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 贾泽纯
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种用于高分子薄膜的高压电极化系统,本发明属于高分子压电材料有序取向领域,具体涉及一种用于高分子薄膜的高压电极化系统。本发明有效保证待极化样品极化后β向晶体方向性一致性均匀分布、样品极化区域形态多样化、且避免单点电晕极化存在的单一场强过大使得样品被击穿导致成品率下降,从而有效提高了极化的成品率。该极化系统由高压极化电源、高压电极、极化电场组件、薄膜极化组件和加热装置组成;所述极化电场组件由极化平板上电极和极化平板下电极组成;所述薄膜极化组件由主极化硅片和底板极化硅片组成。本发明用于生产高分子极化薄膜。
搜索关键词: 一种 用于 高分子 薄膜 高压电 极化 系统
【主权项】:
1.一种用于高分子薄膜的高压电极化系统,其特征在于用于高分子薄膜的高压电极化系统由高压极化电源(1)、高压电极(2)、极化电场组件、薄膜极化组件和加热装置(8)组成;所述极化电场组件由极化平板上电极(3)和极化平板下电极(7)组成;所述高压极化电源(1)上外接有高压电极(2),所述薄膜极化组件由主极化硅片(4)和底板极化硅片(6)组成;所述高压电极(2)位于极化平板上电极(3)的上方,所述极化平板上电极(3)的下方依次设置主极化硅片(4)、底板极化硅片(6)、极化平板下电极(7)和加热装置(8),所述主极化硅片(4)和底板极化硅片(6)之间设置待极化样品(5);所述极化平板上电极(3)、主极化硅片(4)、待极化样品(5)、底板极化硅片(6)、极化平板下电极(7)和加热装置(8)的几何中心位于高压电极(2)的中轴上;所述主极化硅片(4)和底板极化硅片(6)的材质均为工业级抛光的重掺杂硅片。
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