[发明专利]图案化方法

摘要

本发明公开一种图案化方法，其包括下列步骤，在第一掩模层上形成第二掩模层。对第一掩模层以及第二掩模层进行图案化制作工艺。第一掩模层被图案化成为第一掩模图案，且第二掩模层被图案化成为第二掩模图案。第二掩模图案形成于第一掩模图案上。对第二掩模图案进行等离子体处理。第二掩模图案的一部分被等离子体处理转换成被处理层。移除被处理层，用以使第二掩模图案的宽度小于第一掩模图案的宽度。

主权项

1.一种图案化方法，其特征在于，包括：在一第一掩模层上形成一第二掩模层；对该第一掩模层以及该第二掩模层进行一图案化制作工艺，其中该第一掩模层被图案化成为一第一掩模图案，且该第二掩模层被图案化成为一第二掩模图案形成于该第一掩模图案上；对该第二掩模图案进行一等离子体处理，其中该第二掩模图案的一部分被该等离子体处理转换成一被处理层；移除该被处理层，用以使该第二掩模图案的宽度小于该第一掩模图案的宽度；在移除该被处理层之后，形成一覆盖层覆盖该第一掩模图案以及该第二掩模图案；移除该覆盖层的一部分，用以暴露出该第二掩模图案的上表面；移除该第二掩模图案，用以于该覆盖层中形成多个开孔，其中各该开孔暴露出该第一掩模图案的一部分；以及在移除该第二掩模图案之后，以该覆盖层为掩模对该第一掩模图案进行图案化，其中该第一掩模图案被图案化而成为一第三掩模图案。