[发明专利]一种外壳的制造方法和外壳在审
| 申请号： | 201810367558.1 | 申请日： | 2018-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN108642461A | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 冷雪翔 | 申请（专利权）人： | 维沃移动通信有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京远志博慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11680 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 523841 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供一种外壳的制造方法和外壳，涉及终端技术领域，用于提供一种外观效果与陶瓷类似的外壳。该方法包括：将透光基板放置于安装有硅靶材的磁控溅射真空腔内，并将溅射成膜的工艺参数调节为预设值；向磁控溅射真空腔内充入氮气，在透光基板的第一面上形成第一氮化硅膜层；向磁控溅射真空腔内充入氧气，在第一氮化硅膜层上形成第一二氧化硅膜层；向磁控溅射真空腔内充入氮气，在第一二氧化硅膜层上形成第二氮化硅膜层；向磁控溅射真空腔内充入氧气，在第二氮化硅膜层上形成第二二氧化硅膜层。本申请实施例用于制造外观效果与陶瓷类似的外壳。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 真空腔 氮化硅膜层 二氧化硅膜层 氮气 透光基板 外观效果 氧气 陶瓷 制造 工艺参数调节 溅射成膜 终端技术 硅靶材 预设 申请 | ||
【主权项】：
1.一种外壳的制造方法，其特征在于，包括：将透光基板放置于安装有硅靶材的磁控溅射真空腔内，并将溅射成膜的工艺参数调节为预设值；向所述磁控溅射真空腔内充入氮气，在所述透光基板的第一面上形成第一氮化硅膜层；向所述磁控溅射真空腔内充入氧气，在所述第一氮化硅膜层上形成第一二氧化硅膜层；向所述磁控溅射真空腔内充入氮气，在所述第一二氧化硅膜层上形成第二氮化硅膜层；向所述磁控溅射真空腔内充入氧气，在所述第二氮化硅膜层上形成第二二氧化硅膜层。
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