[发明专利]像素结构及其制备方法

摘要

本发明公开了一种像素结构及其制备方法。像素结构包括基板、平坦层、像素电极层以及像素界定层；平坦层连接在所述基板上，平坦层的上表面图案化有多个凹槽以及多个连接过孔，连接过孔从所述平坦层上表面贯穿至基板；像素电极层连接在平坦层的上表面上，并且像素电极层封闭连接过孔朝向平坦层的开口，位于连接过孔内的像素电极层连接平坦层，像素电极层与各个凹槽对应的部分均图案化形成隔断。像素界定层覆盖在连接过孔内并与像素电极层连接。该像素结构成本低和产能高。

主权项

1.一种像素结构，其特征在于，包括基板、平坦层、像素电极层以及像素界定层；所述平坦层连接在所述基板上，所述平坦层的上表面图案化有多个凹槽以及多个连接过孔，所述连接过孔从所述平坦层的上表面贯穿至所述基板；所述像素电极层连接在所述凹槽外侧且位于所述平坦层的上表面上，并且所述像素电极层覆盖所述连接过孔；所述像素界定层位于所述连接过孔处的像素电极层上。