[发明专利]用于确定填充水平的方法和填充水平测量设备有效
| 申请号： | 201810373002.3 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN108827423B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | M.科杰特-克斯巴;V.皮绍 | 申请（专利权）人： | 克洛纳股份公司 |
| 主分类号： | G01F23/284 | 分类号： | G01F23/284;G01S13/88 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 梁冰;李雪莹 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
用于利用填充水平测量设备来确定布置在容器中的过程介质的填充水平的方法，填充水平测量设备构型为TDR填充水平测量设备，其中，填充水平测量设备具有用于引导电磁信号的信号线、信号线头部和电子单元，信号线伸入到过程介质中，至少包括下述步骤：通过电子单元产生具有振幅 |
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| 搜索关键词： | 用于 确定 填充 水平 方法 测量 设备 | ||
【主权项】：
1.用于利用填充水平测量设备（2）来确定布置在容器（3）中的过程介质（4、4a、4b）的填充水平的方法（1），其中，所述填充水平测量设备（2）构型为TDR填充水平测量设备，其中，所述填充水平测量设备（2）具有至少一个用于引导电磁信号的信号线（5）、信号线头部（6）和电子单元（7），其中，所述信号线（5）伸入到所述过程介质（4、4a、4b）中，并且其中，所述方法（1）至少包括下述步骤：‑ 通过所述电子单元（7）产生（10）具有振幅AS的脉冲形发送信号，其中，所述发送信号作为可变振幅的测量信号沿着所述信号线（5）传播，‑ 通过所述电子单元（7）检测并且评估（11）具有振幅Arefl的至少一个反射信号，其中，所述反射信号对应于所述测量信号在第一介质与第二介质之间的界面处的反射，其中，所述第一介质具有第一阻抗z0，所述第二介质具有第二阻抗z1，其特征在于，所述第二介质的相对介电常数εr至少根据穿过所述第一介质传送的测量信号的振幅和所述反射信号的振幅Arefl来确定。
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