[发明专利]成膜机台及成膜制程调整基板偏转量的方法有效
申请号: | 201810374882.6 | 申请日: | 2018-04-24 |
公开(公告)号: | CN108315721B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 张恺 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/52;C23C16/513;C23C16/04 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;李雯雯 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种成膜机台及成膜制程调整基板偏转量的方法。该成膜机台在载台(3)下方设置用于带动所述载台(3)进行转动的旋转机构(M),当基板(9)相对于载台(3)及掩模板(5)发生偏转后,通过控制所述旋转机构(M)带动所述载台(3)及掩模板(5)做旋转调整即可便捷快速地调整基板(9)相对于载台(3)及掩模板(5)的位置,使得基板(9)相对于载台(3)及掩模板(5)无偏转,调整的过程无需升降温及打开真空腔室(1),能够节省时间、人力与物力,提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 机台 成膜制程 调整 偏转 方法 | ||
【主权项】:
1.一种成膜机台,其特征在于,包括真空腔室(1)、设于所述真空腔室(1)内的载台(3)、设于所述真空腔室(1)内并位于所述载台(3)上方的掩模板(5)、固定于所述真空腔室(1)内并位于所述掩模板(5)上方的上电极板(7)、数个沿上下方向贯穿所述载台(3)的支撑杆(4)、用于取放基板(9)的机械手臂(6)以及设于所述载台(3)下方用于带动所述载台(3)进行转动的旋转机构(M)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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