[发明专利]集成电路及其制造方法有效
| 申请号： | 201810376754.5 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108932360B | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 张育荣;徐金厂;李宪信;杨稳儒 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种集成电路包括第一组栅极结构和第二组栅极结构。第一组栅极结构中的每个栅极的中心在第一方向上通过第一间距与第一组栅极结构中的相邻栅极的中心分离。第二组栅极结构中的每个栅极的中心在第一方向上通过第一间距与第二组栅极结构中的相邻栅极的中心分离。第一组栅极结构和第二组栅极结构在第二方向上延伸。第一组栅极结构中的栅极在第二方向上与第二组栅极结构中的相应栅极对准。第一组栅极结构中的栅极在第二方向上通过第一距离与第二组栅极结构中的相应栅极分离。本发明还提供了集成电路的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成集成电路的方法，所述方法包括：通过处理器生成集成电路的布局设计，其中，生成所述布局设计包括：生成与制造所述集成电路的栅极结构组相对应的栅极布局图案组，所述栅极布局图案组中的每个布局图案在第一方向上通过第一间距与所述栅极布局图案组中的相邻布局图案分离，所述栅极布局图案组在与所述第一方向不同的第二方向上延伸并且与网格线组重叠，所述网格线组在所述第二方向上延伸，并且所述网格线组中的每条网格线通过所述第一间距与所述网格线组中的相邻网格线分离；以及生成在所述第一方向上延伸并且与所述栅极布局图案组重叠的切割部件布局图案；基于所述布局设计制造所述集成电路，所述集成电路至少具有所述栅极结构组中的栅极结构；以及去除所述栅极结构组中的栅极结构的第一部分以形成第一栅极结构和第二栅极结构，并且所述切割部件布局图案识别所述栅极结构组中的栅极结构的第一部分的位置。
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