[发明专利]真空室装置有效

专利信息
申请号: 201810379176.0 申请日: 2018-04-25
公开(公告)号: CN108796468B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 卢茨·戈特斯曼;格奥尔格·拉伊梅尔;延斯·梅尔歇尔 申请(专利权)人: 冯·阿登纳资产股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 王瑞朋;胡彬
地址: 德国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种真空室装置(100),其具有:真空室(102),其具有第一供应通道(102v);基板保持装置(104),其具有用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)和用于向基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108),其中供应壳体(108)具有第二供应通道(108v);支承装置(106),基板固定装置(104)借助于该支承装置被可移动地支撑在真空室(102)内;以及供应软管(112),其将第一供应通道(102v)连通至第二供应通道(108v)。
搜索关键词: 真空 装置
【主权项】:
1.一种真空室装置(100),包括:真空室(102),其包括第一供应通道(102v);基板保持装置(104),其包括用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)以及用于向所述基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108),其中,所述供应壳体(108)包括第二供应通道(108v);支承装置(106),所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置被可移动地支撑在所述真空室(102)内;以及供应软管(112),其将所述第一供应通道(102v)连通到所述第二供应通道(108v)。
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