[发明专利]真空室装置有效
申请号: | 201810379176.0 | 申请日: | 2018-04-25 |
公开(公告)号: | CN108796468B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 卢茨·戈特斯曼;格奥尔格·拉伊梅尔;延斯·梅尔歇尔 | 申请(专利权)人: | 冯·阿登纳资产股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王瑞朋;胡彬 |
地址: | 德国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种真空室装置(100),其具有:真空室(102),其具有第一供应通道(102v);基板保持装置(104),其具有用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)和用于向基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108),其中供应壳体(108)具有第二供应通道(108v);支承装置(106),基板固定装置(104)借助于该支承装置被可移动地支撑在真空室(102)内;以及供应软管(112),其将第一供应通道(102v)连通至第二供应通道(108v)。 | ||
搜索关键词: | 真空 装置 | ||
【主权项】:
1.一种真空室装置(100),包括:真空室(102),其包括第一供应通道(102v);基板保持装置(104),其包括用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)以及用于向所述基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108),其中,所述供应壳体(108)包括第二供应通道(108v);支承装置(106),所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置被可移动地支撑在所述真空室(102)内;以及供应软管(112),其将所述第一供应通道(102v)连通到所述第二供应通道(108v)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于冯·阿登纳资产股份有限公司,未经冯·阿登纳资产股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810379176.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:承载装置、反应腔室及半导体加工设备
- 下一篇:一种真空镀膜设备的传输装置
- 同类专利
- 专利分类