[发明专利]掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置在审
申请号: | 201810393022.7 | 申请日: | 2018-04-27 |
公开(公告)号: | CN108598281A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 王世龙;蒋志亮;宋丽 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置,涉及掩膜板技术领域,为解决在对显示器件封装的过程中,由于产生的Under Coating的厚度较厚,导致显示器件的封装效果受到影响的问题。所述掩膜板,包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条,所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条,所述第一掩膜条和第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区,所述开口区用于形成膜层图案;所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧上设置有凸起的挡块结构。本发明提供的掩膜板用于封装显示器件。 | ||
搜索关键词: | 掩膜条 掩膜板 封装 显示器件 方向延伸 显示基板 显示装置 开口区 膜层 掩膜 挡块结构 交叉设置 凸起 制作 图案 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条,所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区,所述开口区用于形成膜层图案;其特征在于,所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧设置有凸起的挡块结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
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