[发明专利]像素界定结构及发光器件的制作方法

摘要

本发明涉及一种像素界定结构及发光器件的制作方法，该制作方法，先在第一像素界定层上制作盲孔，然后制作第二像素界定层，使其覆盖第一像素界定层的上表面以及盲孔的孔壁和孔底，由于位于盲孔孔底的第二像素界定层在一个平面上，只需要将通过相同工艺一步除去盲孔下方的第二像素界定层及第一像素界定层，并且不影响像素电极和第一像素界定层的性能，便于制备高分辨率的像素限定层结构，同时降低了刻蚀工艺的难度，从而降低了刻蚀工艺的成本。

主权项

1.一种像素界定结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：采用亲液性材料在具有图案化的像素电极的基板上制作第一像素界定层；在所述第一像素界定层上对应所述像素电极的图案区域制作多个盲孔；采用疏液性材料在所述第一像素界定层上制作第二像素界定层，使所述第二像素界定层覆盖所述第一像素界定层的上表面以及所述盲孔的孔壁和孔底；去除所述盲孔下部的所述第二像素界定层及所述第一像素界定层，形成贯穿至所述像素电极的像素坑。