[发明专利]激光开盖的方法、装置、存储介质以及激光开盖设备有效
| 申请号： | 201810404717.0 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN110418513B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 谢大维;范永闯;杨凯;吕洪杰;翟学涛;高云峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市大族数控科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/22 | 分类号： | H05K3/22;H01L21/67;B23K26/362 |
| 代理公司： | 深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385 | 代理人： | 汪琳琳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新沙路*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及激光开盖设备技术领域，公开了激光开盖的方法、装置、存储介质以及激光开盖设备。该方法包括：将工件待开盖的区域划分为多个激光蚀刻扫描区；规划对所述多个激光蚀刻扫描区的加工路径；获取所述工件的开盖层的厚度以及激光蚀刻扫描的精度值；根据所述开盖层的厚度和所述精度值计算相邻两个激光蚀刻扫描区在激光蚀刻扫描时理论扫描边界的间距；对所述多个激光蚀刻扫描区进行激光蚀刻扫描，并且相邻两个激光蚀刻扫描区在激光蚀刻扫描时理论扫描边界间隔所述间距。本发明使得相邻两个激光蚀刻扫描区的激光蚀刻扫描光条在激光蚀刻扫描时不发生重叠，避免了激光损伤到工件的电路，有利于提高工件进行激光开盖时的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 方法 装置 存储 介质 以及 设备 | ||
【主权项】：
1.一种激光开盖的方法，应用于激光开盖设备，其特征在于，包括：将工件待开盖的区域划分为多个激光蚀刻扫描区；规划对所述多个激光蚀刻扫描区的加工路径；获取所述工件的开盖层的厚度以及激光蚀刻扫描的精度值；根据所述开盖层的厚度和所述精度值计算相邻两个激光蚀刻扫描区在激光蚀刻扫描时理论扫描边界的间距；对所述多个激光蚀刻扫描区进行激光蚀刻扫描，并且相邻两个激光蚀刻扫描区在激光蚀刻扫描时理论扫描边界间隔所述间距。
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