[发明专利]一种型材氧化着色工艺有效
| 申请号： | 201810409845.4 | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN108660496B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 陈少鹏 | 申请（专利权）人： | 珠海市美图金属科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/08 | 分类号： | C25D11/08;C25D11/14;C25D11/12 |
| 代理公司： | 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 俞梁清<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 519050 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种型材氧化着色工艺，氧化槽中硫酸135～165g/L、温度7～11℃；氧化电流从0.5～0.55A/dm2多阶递增至1～1.1A/dm2；相邻两阶的递增量为0.04～0.08A/dm2；着色槽中16～20g/L的H2SO4、13～17g/L的Sn2+、13～17g/L的Ni2+，着色槽温度15～25℃，电压15～22V，时间17～23min。多种氧化工艺叠加，氧化膜层形成多层不同硬度膜层，再以金属离子电解着色方法，使膜层底层硬外层较软，外层的线彭涨系数等于或接近基体的线彭涨系数，膜层硬度高耐磨，高温工作环境下膜层不裂，不退色。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化着色工艺 着色槽 膜层 高温工作环境 退色 电解着色 金属离子 膜层硬度 氧化电流 氧化工艺 氧化膜层 递增量 高耐磨 下膜层 氧化槽 多层 多阶 两阶 硫酸 叠加 递增 | ||
【主权项】：
1.一种型材氧化着色工艺，其特征在于，包括有以下步骤，/n步骤a，氧化槽中硫酸135～165g/L，氧化液温度7～11℃，型材置入氧化槽；/n步骤b，氧化槽连接电源，流经型材的氧化电流按照多阶递增；型材的第一阶氧化中，氧化电流0.5～0.55A/dm2，型材的最后一阶氧化中，氧化电流1～1.1A/dm2；相邻两阶氧化电流的递增量为0.04～0.08A/dm2；第一阶至倒数第二阶中每一阶的氧化时间4.5～5.5min，最后一阶氧化时间35～60min；/n步骤c，着色槽中液体成分包括有16～20g/L的H2SO4、13～17g/L的Sn2+、13～17g/L的Ni2+，着色槽温度15～25℃；/n步骤e，着色槽连接电源，着色液体接通电源，电压15～22V，着色时间17～23min。/n
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