[发明专利]三维存储器及其制造方法有效
申请号: | 201810417746.0 | 申请日: | 2018-05-04 |
公开(公告)号: | CN108520880B | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 宋哲;梁山安;杜晓琼;仝金雨;李桂花 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/11578 | 分类号: | H01L27/11578 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 董琳;陈丽丽 |
地址: | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种三维存储器及其制造方法。所述三维存储器包括:存储区域,包括至少一个块存储区;标识结构,包括至少一个标识;所述标识位于所述存储区域或者位于所述存储区域的外围,用于标示所述存储区域在所述三维存储器中的地址。本发明能够快速定位到目标地址,大大提高了工作效率和定位成功率,减少了失效分析的成本。 | ||
搜索关键词: | 三维 存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种三维存储器,其特征在于,包括:存储区域,包括至少一个块存储区;标识结构,包括至少一个标识;所述标识位于所述存储区域或者位于所述存储区域的外围,用于标示所述存储区域在所述三维存储器中的地址。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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