[发明专利]一种二氧化锗连续氢还原方法有效

专利信息
申请号: 201810437622.9 申请日: 2018-05-09
公开(公告)号: CN108546832B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 陈建国 申请(专利权)人: 衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司
主分类号: C22B41/00 分类号: C22B41/00;C22B5/12
代理公司: 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 代理人: 张伟;魏娟
地址: 421000 湖南省衡*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种二氧化锗连续氢还原方法,该方法是将二氧化锗装入石墨舟中,连续从管状炉一端进入,在逆流氢气气流中,依次经过预热、还原和熔化,从管状炉另一端连续输出还原锗,石墨舟设计成连体双舟,石墨舟截面设计为方形,且石墨舟深度不超过40mm;所述管状炉内设有双炉管,所述炉管截面为方形,且炉管内设有石墨保护套管;所述管状炉从入料端至出料端依次分为还原区、融熔区和熔化区。该方法通过改进管状炉及石墨舟等结构设计以及优化工艺参数,以低能耗实现二氧化锗连续氢还原高产能获得锗。
搜索关键词: 一种 氧化 连续 还原 方法
【主权项】:
1.一种二氧化锗连续氢还原方法,将二氧化锗装入石墨舟中,连续从管状炉一端进入,在逆流氢气气流中,依次经过预热、还原和熔化,从管状炉另一端连续输出还原锗,其特征在于:所述石墨舟设计成连体双舟,石墨舟截面设计为方形,且石墨舟深度不超过40mm;所述管状炉内设有双炉管,所述炉管截面为方形,且炉管内设有石墨保护套管;所述管状炉从入料端至出料端依次分五个温区,第一温区和第二温区为还原区,温控制在650~680℃,第三温区和第四温区为融熔区,温度控制在710~810℃范围内,第五温区为熔化区,温度970~1000℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司,未经衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810437622.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top