[发明专利]一种反射型光束分割等比递减器及其制作装置、制作方法在审

专利信息
申请号: 201810449894.0 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN108692920A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 吴冰静;张敏;齐文博;薛艳博;李奇;何俊华 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G02B5/08
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 杨引雪
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种反射型光束分割等比递减器及其制作装置、制作方法,解决现有分幅相机的动态范围通过台阶滤片测量,导致激光器的脉冲展宽,降低测量精度的问题。该反射型光束分割等比递减器包括基体,基体的一面为反射面,反射面上镀有等间距分布、反射率等比递减的多种反射膜。同时,本发明还提供一种上述反射型光束分割等比递减器的制作装置及制作方法,该装置包括压板、固定底座、多孔光阑和单孔光阑;固定底座上设置有安装反射型光束分割等比递减器的卡槽,压板设置在固定底座的上端;多孔光阑设置在卡槽的前端,用于设置反射型光束分割等比递减器的镀膜区域;单孔光阑设置在多孔光阑的前端,用于不同光阑孔的镀膜。
搜索关键词: 等比 光束分割 递减器 反射型 固定底座 制作装置 单孔光阑 光阑 压板 制作 测量 等间距分布 镀膜区域 分幅相机 光阑设置 脉冲展宽 激光器 反射率 反射面 反射膜 光阑孔 上端 镀膜 卡槽 滤片 递减 反射
【主权项】:
1.一种反射型光束分割等比递减器,其特征在于:包括基体(11);所述基体(11)的一面为反射面(12),所述反射面(12)上镀有等间距分布、反射率等比递减的多种反射膜(13)。
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