[发明专利]用于形成碳纳米管防护件薄膜的方法有效
| 申请号： | 201810461607.8 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN108873596B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | E·加拉赫;C·惠耿巴尔特;I·波兰迪亚;H·C·阿德尔曼;M·蒂默曼斯;J·U·李 | 申请（专利权）人： | IMEC非营利协会;IMEC美国纳米电子设计中心 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊;郭辉 |
| 地址： | 比利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明构思涉及形成用于极紫外线光刻掩模板(410)的碳纳米管防护件薄膜(102、202)的方法，所述方法包括：通过将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)压制在第一按压表面(106、206)和第二按压表面(108、208)之间来将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的重叠碳纳米管(110、210)结合在一起(502)，由此形成自立式碳纳米管防护件薄膜(102、202)。本发明构思还分别涉及形成用于极紫外线光刻的防护件(400)的方法和形成用于极紫外线光刻的掩模板系统(412)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 纳米 防护 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成用于极紫外线光刻掩模板(410)的碳纳米管防护件薄膜(102、202)的方法(500)，所述方法包括：通过将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)压制在第一按压表面(106、206)和第二按压表面(108、208)之间来将所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的重叠碳纳米管(110、210)结合在一起，由此形成自立式碳纳米管防护件薄膜(102、202)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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