[发明专利]转印模板的制作方法和转印方法、彩膜基板的制作方法在审
| 申请号： | 201810470318.4 | 申请日： | 2018-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN108628092A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 周淼;李冬泽;陈黎暄;陈孝贤 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了转印模板的制作方和转印方法以及彩膜基板的制作方法。转印模板的制作方法包括：在第一基板的第一表面上涂覆水凝胶前驱体，第一基板的第一表面上被图案化地形成凹槽，水凝胶前驱体的部分填充于凹槽内；将树脂基板覆盖在水凝胶前驱体上；对水凝胶前驱体进行固化处理，以形成水凝胶；使水凝胶与第一基板分离，以得到转印模板。彩膜基板的制作方法包括：在基板上制作形成黑色矩阵，黑色矩形限定出多个子像素区；利用上述的制作方法制得的转印模板将单色量子点转印至子像素区内以在子像素区内形成单色量子点光阻层；在基板上制作形成平坦层，平坦层覆盖黑色矩阵和单色量子点光阻层。上述制作方法可保持量子点的初始荧光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 水凝胶 制作 转印模板 量子点 前驱体 彩膜基板 第一基板 转印 第一表面 黑色矩阵 光阻层 平坦层 子像素 基板 固化处理 黑色矩形 树脂基板 荧光效率 图案化 像素区 涂覆 覆盖 填充 | ||
【主权项】：
1.一种转印模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步骤：S1：在第一基板(10)的第一表面上涂覆水凝胶前驱体(20)；其中，所述第一基板(10)的第一表面上被图案化地形成凹槽(11)，所述水凝胶前驱体(20)的部分填充于所述凹槽(11)内；S2：将树脂基板(30)覆盖在所述水凝胶前驱体(20)上；S3：对所述水凝胶前驱体(20)进行固化处理，以形成水凝胶(20a)；S4：使所述水凝胶(20a)与所述第一基板(10)分离，以得到转印模板。
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