[发明专利]一种炉内新增热源的PECVD反应炉及其控制方法有效
申请号: | 201810502077.7 | 申请日: | 2018-05-23 |
公开(公告)号: | CN108588684B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 王晨光;余仲;张勇;王凯 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彦;胡朝阳 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区横*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种炉内新增热源的PECVD反应炉及其控制方法,所述反应炉包括管状的炉体(1)、分别设于炉体两端的端盖(2)和炉门(3)、围绕在炉体外壁上的炉外加热装置、置于炉体腔内的炉内加热装置、以及控制炉外加热装置和炉内加热装置的温控装置;与现有技术相比,本发明在反应炉的内外设有两套热源,使反应炉内升温迅速,缩短了升温等待时间,加快了工艺进程,提高了产能;同时对反应炉中心进行了温度补偿,改善了工艺环境。 | ||
搜索关键词: | 一种 新增 热源 pecvd 反应炉 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
1.一种炉内新增热源的PECVD反应炉,其特征在于:包括管状的炉体(1)、分别设于炉体两端的端盖(2)和炉门(3)、围绕在炉体外壁上的炉外加热装置、置于炉体腔内的炉内加热装置、以及控制炉外加热装置和炉内加热装置的温控装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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