[发明专利]静电保护器件有效

专利信息
申请号: 201810502138.X 申请日: 2018-05-23
公开(公告)号: CN108899314B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;张云;吴志强 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 何世磊
地址: 410082 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种静电保护器件,包括衬底,在衬底内设有深N阱,在深N阱内从左到右依次设有第一N阱、第一P阱以及第二N阱,第一N阱内设有第一N+注入区、第一P+注入区以及第二N+注入区,第二N+注入区跨接在第一N阱与第一P阱之间,在第一P阱内设有第三N+注入区、第二P+注入区以及第四N+注入区,在第二N阱内设有第五N+注入区、第三P+注入区以及第六N+注入区,第五N+注入区跨接在第一P阱与第二N阱之间,第一N阱、第一P阱、以及第二N阱组成第一NPN结构,第二N+注入区、第一P阱以及第三N+注入区组成第二NPN结构。本发明提出的静电保护器件,可提高维持电压,降低触发电压,增强静电泄放能力。
搜索关键词: 静电 保护 器件
【主权项】:
1.一种静电保护器件,其特征在于,包括衬底,在所述衬底内设有深N阱,在所述深N阱内从左到右依次设有第一N阱、第一P阱以及第二N阱,在所述第一N阱内从左到右依次设有第一N+注入区、第一P+注入区以及第二N+注入区,所述第二N+注入区跨接在所述第一N阱与所述第一P阱之间,在所述第一P阱内依次设有第三N+注入区、第二P+注入区以及第四N+注入区,在所述第二N阱内依次设有第五N+注入区、第三P+注入区以及第六N+注入区,所述第五N+注入区跨接在第一P阱与所述第二N阱之间,所述第一N阱、所述第一P阱、以及所述第二N阱组成第一NPN型晶体管,所述第二N+注入区、所述第一P阱以及所述第三N+注入区组成第二NPN型晶体管。
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