[发明专利]一种冗余图形添加方法在审
| 申请号： | 201810504050.1 | 申请日： | 2018-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN108763723A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 姜立维;魏芳;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种冗余图形添加方法，包括：步骤S1：预定义冗余图形大小、间距，以及偏移；步骤S2：计算填充区域；步骤S3：冗余图形添加；步骤S4：将添加冗余图形后的版图按照m×n大小切割；步骤S5：计算各切割窗口内冗余图形密度；步骤S6：计算各切割窗口内冗余图形和原始图形的图形密度和与密度目标值之间的差值；步骤S7：以上述差值为冗余图形补偿值，计算各切割窗口冗余图形改变比率；步骤S8：对各切割窗口内添加的冗余图形按照改变比率进行缩小或者放大处理。本发明不仅能够将各切割窗口之间的密度梯度降低到合理的程度，而且极大的改善了各添加窗口内的冗余图形分布，避免了添加窗口内的冗余图形分布不均，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 冗余图形 切割 产品良率 放大处理 密度梯度 原始图形 预定义 偏移 填充 | ||
【主权项】：
1.一种冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形添加方法，包括：执行步骤S1：预定义冗余图形大小、间距，以及偏移；执行步骤S2：计算填充区域；执行步骤S3：冗余图形添加；执行步骤S4：将添加冗余图形后的版图按照预设窗口m×n大小进行切割；执行步骤S5：计算各切割窗口内冗余图形密度；执行步骤S6：计算各切割窗口内冗余图形和原始图形的图形密度和与密度目标值之间的差值；执行步骤S7：以所述各切割窗口内冗余图形和原始图形的图形密度和与密度目标值之间的差值为冗余图形补偿值，计算各切割窗口冗余图形密度改变量，进而获得冗余图形的缩小或放大之改变比率；执行步骤S8：对各切割窗口内添加的冗余图形按照所述冗余图形之改变比率进行缩小或者放大处理。
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