[发明专利]一种土豆地膜覆盖垄上微沟穴播的栽培方法在审

专利信息
申请号: 201810504782.0 申请日: 2018-05-24
公开(公告)号: CN108925387A 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 李本花 申请(专利权)人: 李本花
主分类号: A01G22/25 分类号: A01G22/25
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 241200 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种土豆地膜覆盖垄上微沟穴播的栽培方法,本发明栽培方法改传统的弓型垄面为凹型垄面,即在大垄中间开微沟,将大垄面分成2个对等的小垄面,解决了降雨资源的有效集纳和高效利用,同时改侧播为垄脊穴播,增加了耕作层熟土厚度和薯块生长空间,提高了产量和商品薯率;在土豆播种时使用土豆点播器进行土豆的点播,这种点播方法可有效减轻对地膜的人为损伤,保持膜面干净,提高工作效率;本发明方法集蓄水增温于一体,增产增收效果显著,技术流程简单,方便实施推广,进一步提高了土豆的质量与产量。
搜索关键词: 土豆 微沟 穴播 地膜覆盖 栽培 大垄 垄面 点播 高效利用 工作效率 技术流程 生长空间 传统的 点播器 耕作层 商品薯 凹型 弓型 膜面 薯块 小垄 增温 地膜 降雨 损伤 播种 蓄水 增产
【主权项】:
1.一种土豆地膜覆盖垄上微沟穴播的栽培方法,其特征在于,包括以下具体步骤:(1)选择地势平坦、土层深厚、土质疏松、肥力中上等,前茬以禾谷类、豆类为好,深耕除草后对土壤进行处理,清理地下害虫,用产量高、品质好、抗病、抗逆性强,以脱毒种薯为主的中晚熟品种,选择健壮的种薯,晒种2‑3天后切块,切块重量30‑50g,每个切块上需带1‑2个芽眼,最后将切块进行处理后即可播种;(2)早春土壤解冻后给土壤施用复合肥料,在3月中旬划行起垄,依次划垄沟与大垄,成“凹”字形浅沟,起垄后,沿边线开深5‑8cm的浅沟,选厚0.01mm以上、宽120cm的黑色地膜全地面覆膜,将地膜一边置于浅沟内用土压实,每隔2‑3m横压土腰带,覆膜后在大、小垄沟内每隔50cm适时打渗水孔,渗水孔径小于3mm,打孔时谨防孔口撕裂,于4月上旬至下旬进行播种,用土豆点播器在大垄的2个小垄上按“品”字形点播,播深10‑15cm;(3)苗期注意田间管理,注意及时补苗,在施肥过程中注意多施钾含量高的磷酸二氢钾肥料,同时平均每亩施加80‑100kg的化肥配合100‑200kg的活性菌生物有机肥进行复配,同时注意虫害的防治,及时适量浇水;(4)当田间70%以上植株枯黄成熟时,提前3‑5天割除地上茎叶,防止病害传染薯块,然后及时收获,除去病薯、伤薯和畸形薯,摊开晾晒2‑3天后,按薯块大小分级贮存上市;并彻底清除废膜和病株残体,集中统一处理或焚烧深埋,防止土地污染,保证耕地质量。
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