[发明专利]金属线栅偏光片的制作方法在审
| 申请号： | 201810528219.7 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN108776364A | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 宋德伟;颜源;李立胜 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：提供一玻璃基板；在玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，光阻图案层包括第一图案部分以及设于第一图案部分之间的第二图案部分；去除第二图案部分以露出第一非金属薄膜；以第一图案部分为掩膜湿法刻蚀第一非金属薄膜以在玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线；在第一图案部分与玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于非金属线上的第一图案部分与金属薄膜以得到位于数条非金属线之间的金属线。本发明解决了金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 非金属薄膜 玻璃基板 非金属线 金属薄膜 光阻图案层 金属线栅 金属线 偏光片 沉积 沉积金属薄膜 光阻材料层 间隔设置 空气接触 纳米压印 湿法刻蚀 材料层 刻蚀 掩膜 去除 制作 剥离 腐蚀 概率 | ||
【主权项】：
1.一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。
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