[发明专利]可喷绘反光膜及其制备方法在审
申请号: | 201810547321.1 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108535800A | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
发明(设计)人: | 朱昊枢;贾俊伟;任家安;左志成;蔡文静;周聚鹤;朱志坚;陈林森 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
主分类号: | G02B5/128 | 分类号: | G02B5/128 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人: | 叶栋 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种可喷绘反光膜及其制备方法,该可喷绘反光膜包括载体层和反光层,反光层自上而下包括依次设置的光敏胶层、微珠层、反射层、粘着层和离型层,载体层设置在光敏胶层上,微珠层包括若干微珠,反射层设置在微珠层上。该制备方法包括S1、将光敏胶与微珠混合,充分搅拌后将其涂布在载体层上,随后进行光固化,得到涂布在载体层上的光敏胶层和微珠层;S2、在光敏胶层远离载体层的侧面上通过沉积法形成反射层,再在反射层上涂布粘着层,并与离型层复合,得到可喷绘反光膜。该制备方法工艺简单、成本较低,适合工业化生产,且制备得到的可喷绘反光膜层间结合更牢固,成品不易分离和断裂。 | ||
搜索关键词: | 载体层 喷绘 光敏胶层 反光膜 反射层 微珠层 制备 反光层 离型层 粘着层 微珠 制备方法工艺 反光膜层 依次设置 沉积法 光固化 光敏胶 断裂 复合 侧面 | ||
【主权项】:
1.一种可喷绘反光膜,包括载体层和反光层,其特征在于,所述反光层自上而下包括依次设置的光敏胶层、微珠层、反射层、粘着层和离型层,所述载体层设置在所述光敏胶层上,所述微珠层包括若干微珠,所述反射层设置在所述微珠层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学,未经苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810547321.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种植珠部微珠自动加料系统
- 下一篇:光学滤波器