[发明专利]掩膜板的制作方法及掩膜板有效
| 申请号： | 201810547816.4 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110158025B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 肖志慧;郭远征;王菲菲 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 胡萌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种掩膜板的制作方法及掩膜板，以提高掩膜板的受力均匀性和像素位置精度。其中所述掩膜板的制作方法包括：提供开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上具有至少一个开口区；在所述开口区内形成光刻胶层，所述光刻胶层具有掩膜板的网格结构的图案；以所述光刻胶层为掩膜，在所述开口区内沉积掩膜板的网格结构的材料，形成掩膜板的网格结构，所述网格结构的边缘与其所在的开口区的侧壁连接成为一体结构。上述制作方法应用于高PPI、异形或不规则形状的掩膜板的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上具有至少一个开口区；在所述开口区内形成光刻胶层，所述光刻胶层具有掩膜板的网格结构的图案；以所述光刻胶层为掩膜，在所述开口区内沉积掩膜板的网格结构的材料，形成掩膜板的网格结构，所述网格结构的边缘与其所在的开口区的侧壁连接成为一体结构。
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