[发明专利]一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备有效
| 申请号： | 201810548633.4 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110554570B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 李先明;郝保同 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备。该污染控制装置包括至少一个风腔，风腔具有至少一个入风口，以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口；每组第二出风口包括两个相对于风腔的中轴线对称的第二出风口；第一出风口设置在第二出风口的外圈；第一出风口的出风方向背向至少一个风腔的中心，且与至少一个风腔的中轴线呈第一夹角，第二出风口的出风方向朝向至少一个风腔的中心，且与中轴线呈第二夹角。本发明实施例提供的污染控制装置，通过设置至少两个第一出风口和至少一组第二出风口，在污染控制装置工作时可以形成半封闭空间，进而阻止污染物进入半封闭空间内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 污染 控制 装置 方法 物镜 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种污染控制装置，其特征在于，包括至少一个风腔，所述风腔具有至少一个入风口，以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口；/n每组所述第二出风口包括两个相对于所述风腔的中轴线对称的所述第二出风口；/n所述第一出风口设置在所述第二出风口的外圈；/n所述第一出风口的出风方向背向所述至少一个风腔的中心，且与所述至少一个风腔的中轴线呈第一夹角；所述第二出风口的出风方向朝向所述至少一个风腔的中心，且与所述中轴线呈第二夹角；所述第一出风口的出风方向与所述第二出风口的出风方向之间的夹角小于90°。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810548633.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：抗蚀剂组合物及图案化方法
- 下一篇：一种照明系统、曝光系统及光刻设备
