[发明专利]曝光光罩及其制作方法、光阻材料图形化方法及蚀刻方法

摘要

本申请涉及一种曝光光罩及其制作方法、光阻材料图形化方法及蚀刻方法，该曝光光罩包括光罩基板；设置于光罩基板的图形层；以及，设置于光罩基板的半透光层，半透光层位于图形层的边缘位置。通过在图形层边缘位置添加半透光层，即相当于在全透光层与不透光层之间增加半透光层，该半透光层具有一定的光透过率，在曝光过程中位于该半透光层下面的光阻材料受到一定强度的光照，使得该部分光阻材料在显影过程中被部分去除，从而在完整光阻材料部分以及光阻材料完全去除的部分之间形成一个光阻材料过渡结构，该光阻材料过渡结构的厚度小于完整光阻材料部分的厚度，从而达到减小坡度角的目的。

主权项

1.一种曝光光罩，其特征在于，包括：光罩基板；设置于所述光罩基板上的图形层，用于在曝光及显影工艺中使得光阻材料层形成所述图形层对应的图形；以及，设置于所述光罩基板上的半透光层，所述半透光层位于所述图形层的边缘，用于在所述曝光及显影工艺中减小所述光阻材料层所形成图形的坡度角。