[发明专利]一种位移测量系统和光刻机有效

专利信息
申请号: 201810552854.9 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN110553591B 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 张静静 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G03F7/20
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种位移测量系统,用于测量第一运动台沿着预定方向移动的位移信息,所述位移测量系统包括:第二运动台,平行于所述预定方向移动;激光干涉仪测量装置,用于测量所述第二运动台沿着预定方向移动的位移信息;位移转换装置,用于将所述第二运动台沿着预定方向的移动按预定比例放大并驱动所述第一运动台沿着预定方向移动;以及控制装置,用于将所述第二运动台沿着预定方向移动的位移信息按预定比例放大为所述第一运动台沿着预定方向移动的位移信息;其中,所述第一运动台、所述第二运动台和所述激光干涉仪测量装置沿着预定方向依次分布。本发明中的位移测量系统和光刻机可以提高位移测量系统的测量精度和稳定性。
搜索关键词: 一种 位移 测量 系统 光刻
【主权项】:
1.一种位移测量系统,用于测量第一运动台沿着预定方向移动的位移信息,其特征在于,所述位移测量系统包括:/n第二运动台,平行于所述预定方向移动;/n激光干涉仪测量装置,用于测量所述第二运动台沿着所述预定方向移动的位移信息;/n位移转换装置,用于将所述第二运动台沿着所述预定方向的移动按预定比例放大/缩小并驱动所述第一运动台沿着所述预定方向移动;以及/n控制装置,用于将所述第二运动台沿着预定方向移动的位移信息按预定比例放大/缩小为所述第一运动台沿着预定方向移动的位移信息;/n其中,所述第一运动台、所述第二运动台和所述激光干涉仪测量装置沿着所述预定方向依次分布。/n
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