[发明专利]吸附载台及光刻设备有效
| 申请号： | 201810555715.1 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110554573B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 魏银雷;廖飞红 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种吸附载台及光刻设备，所述吸附载台中的多个子调平制动单元中每个子调平致动单元包括至少三个压电致动器。基于本发明中至少三个压电致动器中的三个压电致动器调平每个子吸附平台单元，从而使得吸附面的面型符合测试需求；还可以额外增加压电致动器，以调整单个子吸附平台单元在中间出现整体的突起或凹陷的问题，从而有效提高单个子吸附平台单元的平面度，有效提高吸附面的调平精度，从而提高平面器件的产品成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种吸附载台，其特征在于，包括：/n多个子吸附平台单元，共同拼接构成吸附面以吸附平面器件；/n多个子调平致动单元，每个子调平致动单元对应设置于一子吸附平台单元的下方，每个子调平致动单元包括至少三个压电致动器；以及/n平台面型测量单元，用于测量每个子吸附平台单元和/或所述平面器件的平面度，并将测量的结果反馈给所述多个子调平致动单元。/n
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