[发明专利]一种半导体芯片生产用物理气相沉积装置有效
申请号: | 201810569422.9 | 申请日: | 2018-06-05 |
公开(公告)号: | CN108735580B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 汪玉洁 | 申请(专利权)人: | 钟祥市创林机电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 431900 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体芯片生产用物理气相沉积装置,包括支撑座、连接框、放置框、第一洗涤仓和内壳,所述支撑座的上端设置有支撑架,所述连接框固定在液压缸的下端,且连接框的内侧设置有第一电机,并且连接框的下端安装有挡板,所述第一电机的下端设置转轴,所述放置框的外侧预留有透水孔,所述第一洗涤仓安装在支撑架的内侧底端,所述内壳安装在外壳的内端,所述旋转块的下端安装有第二电机,且第二电机的外侧设置有防水罩,所述集水箱的顶端两侧预留有凹槽。该半导体芯片生产用物理气相沉积装置在运行时,通过液压缸的伸缩提高了对半导体芯片的清洗速度,而且分开洗涤对于清洗的效果也得到了提高,操作简单,节省了人力。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 芯片 生产 物理 沉积 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体芯片生产用物理气相沉积装置,包括支撑座(1)、连接框(5)、放置框(9)、第一洗涤仓(12)和内壳(15),其特征在于:所述支撑座(1)的上端设置有支撑架(2),且支撑架(2)的顶端安装有丝杆(3),并且丝杆(3)的前端面设置有液压缸(4),所述连接框(5)固定在液压缸(4)的下端,且连接框(5)的内侧设置有第一电机(6),并且连接框(5)的下端安装有挡板(7),所述第一电机(6)的下端设置转轴(8),且转轴(8)的底端固定有放置框(9),所述放置框(9)的外侧预留有透水孔(10),且放置框(9)的内侧固定有隔板(11),所述第一洗涤仓(12)安装在支撑架(2)的内侧底端,且第一洗涤仓(12)的一端设置有第二洗涤仓(13),并且第二洗涤仓(13)的外侧设置有外壳(14),所述内壳(15)安装在外壳(14)的内端,且内壳(15)的中间下端安装有旋转块(16),并且旋转块(16)的两侧下端安装有转轮(17),所述旋转块(16)的下端安装有第二电机(18),且第二电机(18)的外侧设置有防水罩(19),并且第二电机(18)安装在集水箱(21)的内侧顶端,所述集水箱(21)的顶端两侧预留有凹槽(20)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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