[发明专利]一种超薄氮化硼纳米片的制备方法在审
| 申请号： | 201810582663.7 | 申请日： | 2018-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN108394915A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 李伟峰;严泓;龙玉梅 | 申请（专利权）人： | 苏州大学张家港工业技术研究院;苏州大学 |
| 主分类号： | C01B35/14 | 分类号： | C01B35/14;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215600 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超薄氮化硼纳米片的制备方法。以三聚氰胺为氮源，以硼酸为硼源，通过化学反应获得前驱体；利用所获得的硼酸三聚氰胺，在还原气氛下，经过二步煅烧工艺，制备得到超薄六方氮化硼纳米片产物。按本发明制备方法得到的氮化硼呈二维片状结构，表面富含氨基和羟基等官能团，具有超薄的厚度，可广泛应用于生物、化学、光电物理和材料等多个学科领域。本发明原料易得，成本低廉，合成工艺简单，制备周期短，重复性佳，可批量生产，易于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 氮化硼纳米 氨基 硼酸 二维片状结构 硼酸三聚氰胺 化学反应 六方氮化硼 合成工艺 还原气氛 三聚氰胺 学科领域 制备周期 氮化硼 纳米片 前驱体 氮源 富含 硼源 煅烧 羟基 应用 生产 | ||
【主权项】：
1.一种超薄氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于包括如下步骤：(a) 前驱体的配置以三聚氰胺为氮源，以硼酸为硼源，氮源与硼源的摩尔比为1:1～10:1；先将三聚氰胺粉末在加热、搅拌条件下完全溶解于去离子水中，再加入硼酸粉末，搅拌至反应完全后，得到前驱体溶液；(b) 离心处理将前驱体溶液冷却至室温后得到悬浊液，经离心处理，回收所得白色沉淀，干燥后得到前驱体粉末；(c) 煅烧处理将前驱体粉末在还原气氛下进行预煅烧，再升温后进行二次煅烧；自然冷却至室温，得到超薄氮化硼纳米片。
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