[发明专利]一种磁体外观缺陷检测的方法及系统有效
| 申请号： | 201810598088.X | 申请日： | 2018-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN108776966B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 黄甦;何金洲 | 申请（专利权）人： | 成都银河磁体股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/62;G01N21/88 |
| 代理公司： | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人： | 王芸;李正 |
| 地址： | 611731 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁体外观缺陷检测的方法及装置，首先对待检测磁体图像进行二值化处理，其次对经过二值化处理后的磁体图像进行特征提取，并根据提取到的图像特征，确定待检测磁体的缺陷类型、缺陷位置以及缺陷大小。最后，根据待检测磁体的缺陷位置以及缺陷大小，确定待检测磁体是否合格。从而对符合工艺要求的产品进行准确、快速的识别，减少由于采用同一识别标准而造成的误识别。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁体 外观 缺陷 检测 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种磁体外观缺陷检测的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)获取待检测磁体的图像，并对磁体图像进行二值化处理；(2)对经过二值化处理后的磁体图像进行特征提取，并根据提取到的图像特征，确定待检测磁体的缺陷类型、缺陷位置以及缺陷大小；(3)根据待检测磁体的缺陷位置以及缺陷大小，确定待检测磁体是否合格。
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