[发明专利]一种光致发光光谱处理的方法和装置在审
| 申请号： | 201810601407.8 | 申请日： | 2018-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN108956550A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 李昱桦;乔楠;刘春杨;胡加辉;李鹏 | 申请（专利权）人： | 华灿光电（浙江）有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/63 | 分类号： | G01N21/63 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 徐立 |
| 地址： | 322000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光致发光光谱处理的方法和装置，属于半导体技术领域。包括：获取待测试外延片的光致发光光谱；获取待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值；根据待测试外延片的光致发光发光谱中各个像素的参数值，确定待测试外延片是否存在缺陷以及缺陷的类型。本发明通过在获取到待测试外延片的光致发光光谱之后，获取待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值，并根据待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值，确定待测试外延片是否存在缺陷以及缺陷的类型，由设备自主完成对外延片的光致发光光谱的分析，有效避免人为分析所导致的效率低、准确性和稳定性差的问题，提高了分析效率以及分析结果的准确性和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 光致发光光谱 外延片 测试 像素 方法和装置 半导体技术领域 分析效率 光致发光 光谱 分析 | ||
【主权项】：
1.一种光致发光光谱处理的方法，其特征在于，所述方法包括：获取待测试外延片的光致发光光谱；获取所述待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值；根据所述待测试外延片的光致发光发光谱中各个像素的参数值，确定所述待测试外延片是否存在缺陷以及缺陷的类型。
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