[发明专利]半导体结构有效

专利信息
申请号: 201810605636.7 申请日: 2018-06-13
公开(公告)号: CN110600465B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 李建兴;黄绍璋;林志轩 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王天尧;周晓飞
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体结构,包括:一基板,具有一第一掺杂型态;一金属层,形成于该基板的表面;一栅极,形成于该基板上;一漏极,形成于该基板中,位于该栅极的一侧,并与该金属层相邻;一源极,形成于该基板中,位于该栅极的另一侧;以及一第一掺杂区,形成于该基板中,包围该金属层与该漏极,该第一掺杂区具有一第二掺杂型态,且该第二掺杂型态与该第一掺杂型态不同。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:/n一基板,具有一第一掺杂型态;/n一金属层,形成于该基板的表面;/n一栅极,形成于该基板上;/n一漏极,形成于该基板中,位于该栅极的一侧,并与该金属层相邻;/n一源极,形成于该基板中,位于该栅极的另一侧;以及/n一第一掺杂区,形成于该基板中,包围该金属层与该漏极,该第一掺杂区具有一第二掺杂型态,且该第二掺杂型态与该第一掺杂型态不同。/n
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