[发明专利]用于等离子体处理至少一个表面的方法和装置有效
| 申请号： | 201810612201.5 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN109078819B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | M.本戴奇;A.库普斯 | 申请（专利权）人： | 德莎欧洲股份公司 |
| 主分类号： | B05D3/14 | 分类号： | B05D3/14;B05D5/00;B05D7/24;B05C5/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金拟粲 |
| 地址： | 德国诺*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于等离子体处理至少一个表面的方法和装置，其中从等离子体喷嘴(1)引导等离子体流(7a)并且将至少一个表面设置在等离子体喷嘴(1)中的开口(21)的流方向延伸的开口横截面之外，和将等离子体流(7a)转向到所述至少一个表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 至少 一个 表面 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.用于等离子体处理至少一个表面的方法，其中从等离子体喷嘴(1)引导等离子体流(7a)并且将至少一个表面设置在等离子体喷嘴(1)中的开口(21)的流方向延伸的开口横截面之外，和将等离子体流(7a)转向到所述至少一个表面上。
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