[发明专利]除静电支撑结构、基板运载设备在审
| 申请号： | 201810629455.8 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN108633155A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 严道波 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H05F3/04 | 分类号： | H05F3/04;H05F3/06 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种除静电支撑结构、基板运载设备，所述基板运载设备包括所述除静电支撑结构，所述除静电支撑结构包括喷嘴、电极部件、电极针、放电防止帽以及气管，所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子，减少基板破片发生，提升产品品质；另外，基板与载台之间不再发生粘片，探针上升速度加快，使得设备生产节拍加快，提高了生产设备的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑结构 除静电 基板 运载设备 处理基板 载台 产品品质 电极部件 设备生产 生产设备 正负离子 静电 喷嘴 电极针 放电 产能 破片 探针 粘片 气管 节拍 中和 释放 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种用于承载基板的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构包括用于释放离子的喷嘴和用于产生所述离子的电极部件；所述喷嘴位于所述除静电支撑结构的一端，所述喷嘴与所述电极部件连接；所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子。
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