[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组成物、光致抗蚀剂图案及其形成方法以及电子装置在审
申请号: | 201810632052.9 | 申请日: | 2018-06-19 |
公开(公告)号: | CN109116681A | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 许智航;刘骐铭;吴明儒;施俊安 | 申请(专利权)人: | 奇美实业股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 张晓霞;臧建明 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种能够改善感度及耐热性不佳问题的化学增幅型正型感光性树脂组成物、光致抗蚀剂图案及其形成方法以及电子装置。化学增幅型正型感光性树脂组成物包括:含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)、聚硅氧烷(B)、光酸产生剂(C)、以及溶剂(D),其中,聚硅氧烷(B)至少是由式(B‑1)表示的硅烷单体聚缩合而得。Si(Ra)w(ORb)4‑w式(B‑1)。 | ||
搜索关键词: | 正型感光性树脂 化学增幅型 组成物 光致抗蚀剂图案 电子装置 聚硅氧烷 聚羟基苯乙烯树脂 酸解离性保护基 耐热性 光酸产生剂 硅烷单体 溶剂 感度 缩合 | ||
【主权项】:
1.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,包括:含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A);聚硅氧烷(B);光酸产生剂(C);以及溶剂(D),所述聚硅氧烷(B)至少是由式(B‑1)表示的硅烷单体聚缩合而得:Si(Ra)w(ORb)4‑w 式(B‑1)式(B‑1)中,Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的碳数为1至10的烷氧基;Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基;w表示1至3的整数;且至少一个Ra表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的碳数为1至10的烷氧基。
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