[发明专利]蒸发辅助装置和干燥设备在审
| 申请号： | 201810634840.1 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN108759360A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 王欣竹;吴新风;胡友元;李菲;李慧慧;栾梦雨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | F26B9/10 | 分类号： | F26B9/10;F26B23/04;F26B25/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸发辅助装置，用于膜层干燥工艺中，所述蒸发辅助装置包括罩板，所述罩板包括顶壁和与该顶壁相连的侧壁，所述顶壁用于与待干燥基板的待干燥区相对设置，所述侧壁用于支撑在所述待干燥基板并环绕所述待干燥区；所述顶壁上设置有多个通气孔；所述罩板的顶壁被划分为从所述顶壁的中部到所述顶壁的边缘分布的多个通气区；从所述顶壁的中部到所述顶壁的边缘，所述通气区中通气孔的开口面积之和与所述通气区的面积之比逐渐减小。相应地，本发明还提供一种干燥设备。本发明能够均衡整个待干燥区中溶剂的挥发速度，从而使得待干燥区不同位置干燥后形成的膜层厚度更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 顶壁 待干燥 辅助装置 通气区 罩板 蒸发 干燥设备 通气孔 侧壁 基板 膜层 边缘分布 干燥工艺 相对设置 逐渐减小 溶剂 挥发 环绕 开口 均衡 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发辅助装置，用于膜层干燥工艺中，其特征在于，所述蒸发辅助装置包括罩板，所述罩板包括顶壁和与该顶壁相连的侧壁，所述顶壁用于与待干燥基板的待干燥区相对设置，所述侧壁用于支撑在所述待干燥基板并环绕所述待干燥区；所述顶壁上设置有多个通气孔；所述罩板的顶壁被划分为从所述顶壁的中部到所述顶壁的边缘分布的多个通气区；从所述顶壁的中部到所述顶壁的边缘，所述通气区中通气孔的开口面积之和与所述通气区的面积之比逐渐减小。
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