[发明专利]一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法

摘要

本发明公开一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法，涉及镀膜技术领域，包括配料和烧结工艺步骤。本发明，设计科学、合理，对于所述镀膜靶材，制备方便、节约，作用安全、可靠，能够有效解决氧化锆镀膜靶材开裂问题，能解决传统氧化锆镀膜靶材镀膜过程中的不稳定和折射率不均匀性问题，提高氧化锆薄膜的损伤阈值，确保产品质量。

主权项

1.一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法，其特征在于，包括以下步骤：A.配料采用氧化锆和氧化钇（稳定剂）粉料为原料，其重量份配比：300目氧化锆100份，1400目氧化锆90～110份，稳定剂30～50份，所述稳定剂为氧化钇或氧化鈰，或者，采用复合稳定剂，并将上述原料混合均匀，获得混合氧化物；B.添加粘合剂在混合氧化物中，加入粘合剂，其重量份数配比为：混合氧化物100份，粘合剂0.5份～5份，加水适量，调和均匀，获得粘合配料；C.烘燥将前道获得的粘合配料在烘箱中烘燥，烘干水分，烘燥温度90℃～110℃温度，获得干燥配料；D.压制将前道获得的干燥配料置于合金模具中，压制成形，获得烧结前驱物；E.烧结把上述烧结前驱物，装入容器，置于真空烧结炉中烧结，真空度为0.01帕～0.0001帕，烧结温度为1600℃～2000℃，保温2小时～6小时，然后自然冷却降温至室温，获得成品。