[发明专利]一种显影装置、曝光显影设备及显影方法有效
| 申请号： | 201810662507.1 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN108776424B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 刘宁;闫梁臣;周斌;刘军;程磊磊;李广耀 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显影装置、曝光显影设备及显影方法，涉及显影装置技术领域，为解决现有显影装置在对基板上的光刻胶显影处理后，光刻胶孔的坡度角较大的问题而发明。该显影装置，包括基台和显影液喷嘴，所述基台具有基板放置面，所述显影液喷嘴与所述基板放置面相对设置，还包括与所述基板放置面相对设置的微波发射单元，所述微波发射单元的微波发射口朝向所述基板放置面设置，并且沿平行于所述基板放置面的方向，所述微波发射单元与所述显影液喷嘴错开设置。本发明可用于显影处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显影 装置 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显影装置，包括基台和显影液喷嘴，所述基台具有基板放置面，所述显影液喷嘴与所述基板放置面相对设置，其特征在于，还包括与所述基板放置面相对设置的微波发射单元，所述微波发射单元的微波发射口朝向所述基板放置面设置，并且沿平行于所述基板放置面的方向，所述微波发射单元与所述显影液喷嘴错开设置。
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