[发明专利]一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法在审
| 申请号： | 201810668967.5 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN108517495A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 龙汝磊;范滨;张果立 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。本发明的优点是：实现真空镀膜室内蒸发源位置的调整，可根据镀膜产品灵活调整工艺，实现更好的镀膜效果；可实现坩埚点位的切换，尤其便于多种镀膜材料的逐一蒸镀，提高镀膜效率，扩大产能；结构简单合理，拆装方便，适于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发源位置 基准调节 坩埚 转动驱动装置 可调节结构 真空镀膜 电子枪 镀膜 室内 真空镀膜技术 拆装方便 镀膜材料 镀膜产品 镀膜效果 镀膜效率 灵活调整 蒸发位置 转动调整 产能 点位 蒸镀 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源位置的可调节结构，包括设置在真空镀膜室内的坩埚台和电子枪，其中所述坩埚台用于承载盛放有镀膜材料的坩埚，所述电子枪用于对所述坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。
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