[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810670754.6 申请日: 2018-06-26
公开(公告)号: CN110649166A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 朱佩;向超宇;王雄志;张滔;李乐 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 44268 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种量子点发光二极管及其制备方法,所述量子点发光二极管包括层叠设置的阳极、量子点发光层和阴极,其中,还包括设置于阳极和量子点发光层之间的空穴注入层,所述空穴注入层的材料包括氮化的金属掺杂氧化镍。本发明通过金属掺杂改善氧化镍薄膜的传输性能,并提高其空穴载流子的传输效率,从而提升量子点发光二极管的发光效率;进一步地,金属掺杂氧化镍薄膜经过氮化处理后,使得薄膜内部引入了一定量的氮原子,从而增加了薄膜内部的孔隙率,内部多孔结构可使得氧化镍薄膜的折射率下降,减少了空穴注入层到阳极的出光损失,从而提高量子点发光二极管的透光率。
搜索关键词: 量子点 发光二极管 空穴注入层 氧化镍薄膜 阳极 金属掺杂 发光层 薄膜 阴极 空穴载流子 层叠设置 传输效率 传输性能 氮化处理 多孔结构 发光效率 氮化 氮原子 光损失 孔隙率 透光率 氧化镍 折射率 制备 引入
【主权项】:
1.一种量子点发光二极管,包括层叠设置的阳极、量子点发光层和阴极,其特征在于,还包括设置于阳极和量子点发光层之间的空穴注入层,所述空穴注入层的材料包括氮化的金属掺杂氧化镍。/n
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