[发明专利]高水氧阻隔率量子点膜的制备方法及其用途

摘要

本申请提供了一种高水氧阻隔率量子点膜的制备方法及其用途。该高水氧阻隔率量子点膜的制备方法包括以下步骤：将红光量子点材料、绿光量子点材料、UV预聚体、UV单体、偶联剂、光扩散剂和流平剂混合，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟，形成量子点油墨；将量子点油墨涂覆在第一基材上，形成量子点层；在量子点层上与第一基材相对的一侧覆盖第二基材，然后对第一基材、量子点层和第二基材进行UV照射，量子点油墨固化后形成成品。采用上述制备方法得到的高水氧阻隔率量子点膜作为设置在液晶显示器内导光板上量子点膜的用途。在本申请实施例中，高水氧阻隔率量子点膜具有制备工艺简单、成本低的优点，并且具有强耐水性及抗氧化能力。

主权项

1.一种高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，量子点油墨的制备：将红光量子点材料、绿光量子点材料、UV预聚体、UV单体、偶联剂、光扩散剂和流平剂混合，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟，形成量子点油墨；步骤2，量子点层的制备：将量子点油墨涂覆在第一基材上，形成量子点层；步骤3，在量子点层上与第一基材相对的一侧覆盖第二基材，然后对第一基材、量子点层和第二基材进行UV照射，量子点油墨固化后形成成品。