[发明专利]一种触控层的制作方法及设备有效
| 申请号： | 201810689115.4 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN108776423B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 刘威;崔子龙;俎阿敏;吴德生 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F3/041;C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种触控层的制作方法及设备，包括向光刻胶层上溅镀透光膜层；采用曝光光源通过铬板膜面及透光膜层对光刻胶层进行曝光处理，使铬板膜面上的图案转移至光刻胶层上；其中，铬板膜面与透光膜层直接接触；将铬板从透光膜层上移开，并去除位于曝光后的光刻胶层上的透光膜层，得到带有图案的光刻胶层。可见，本发明实施例在对光刻胶层进行曝光的过程中避免了铬板与光刻胶层的直接接触，从而避免光学胶层在曝光后出现图案断线现象的发生，在确保曝光精度的同时提高了触控层的制作良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 触控层 制作方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种触控层的制作方法，其特征在于，包括：向光刻胶层上溅镀透光膜层；采用曝光光源通过铬板膜面及所述透光膜层对所述光刻胶层进行曝光处理，使所述铬板膜面上的图案转移至所述光刻胶层上；其中，所述铬板膜面与所述透光膜层直接接触；将所述铬板从所述透光膜层上移开，并去除位于曝光后的光刻胶层上的透光膜层，得到带有所述图案的光刻胶层。
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