[发明专利]双孔形位公差测量机构

摘要

本发明提供一种双孔形位公差测量机构，固定框架在第一导轨上移动，固定框架面对具有双孔的部件的侧面上固定有垂直于第一导轨的第二导轨和移动板，移动板上的第三导轨上滑动着测试臂，测试臂一端至少有两个测试探头；测试臂上的第一测距传感器测量测试臂在第三导轨上的位移；移动板上的第二测距传感器测量移动板在第二导轨上的位移；固定框架的第三测距传感器测量测量装置在第一导轨上的位移。测量装置先移动，使得一个测试探头伸入一个孔内，然后测量装置向另一个孔移动，直至另一个测试探头伸入另一个孔内，根据第一测距传感器、第二测距传感器、第三测距传感器显示的位移数据，从而计算出两个孔的形位公差，减少人为干扰因素和人为差错。

主权项

1.一种双孔形位公差测量机构，测量时放置于具有双孔的部件的一侧，其特征在于，包括一对垂直于至少一个孔的轴向的第一导轨和在所述第一导轨上滑动的测量装置，所述测量装置包括一固定框架，所述固定框架面对所述具有双孔的部件的侧面上，固定有至少一条垂直于所述第一导轨的第二导轨和在所述第二导轨上滑动的移动板；所述移动板上还设置有垂直于所述第一导轨和第二导轨形成的平面的第三导轨，所述第三导轨上滑动着向所述具有双孔的部件延伸形成的测试臂，所述测试臂远离所述具有双孔的部件的一端在所述第三导轨上滑移，靠近所述具有双孔的部件的一端沿着所述双孔的轴向延伸形成有至少两个测试探头，每个测试探头至少与一个孔的轴向平行；所述测试臂上设置有两个相反安装的第一测距传感器，两个第一测距传感器的测试方向与所述第三导轨平行，用于测量所述测试臂在第三导轨方向上的位移；所述移动板还固定连接有两个相反安装的第二测距传感器，两个第二测距传感器的测试方向平行于所述第二导轨，用于测量所述移动板在所述第二导轨方向上的位移；所述固定框架内还设置有至少一个第三测距传感器，所述第三测距传感器的测试方向平行于所述第一导轨，用于测量所述测量装置在所述第一导轨上的位移。